奈米壓印(NIL)與微影(Lithography)

奈米壓印技術目前主要發展的應用範圍有幾個領域，半導體製程的開發、高容量硬碟儲存裝置、光學元件相關應用。而奈米壓印技術中有一關鍵技術就是要製作出高品質、低缺陷的壓印模具，這樣的技術對於需要小尺寸、及精密圖形的半導體或高容量硬碟儲存的應用尤其重要。市場預估，在半導體製程需求的最小線寬半週期小於23nm時，在此小線寬下其可容許的誤差精度將更形重要。

以下為本公司可提供相關的產品說明:

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壓印模具 (mold /Template of NIL)	1. 熱壓印模(Thermal Cycle Type)-材料以Si,SiC,Ta...等為主。 2. 紫外光硬化模(UV-Curable Type)-材料以Quartz為主。
X 光光學元件 (X-ray Optical Components)	1.光柵(Grating) 2. Fresnel Zone Plate
標準奈米刻度樣品 (Standard Scale)	1. 校正長度 2. X-Ray解析度驗證 3. 校正AFM高度；驗證AFM性能
奈米膈膜 (Membrance Stencil /Membrance MEMS)	SiC、SiN 奈米膈膜 (Sample Holder、X-Ray Filter、MEMS Sensor)
奈米元件製造服務 (Nano Fabrication Service )	客製化需求服務 (Customized Fabrication Service)
鉭酸鉀晶體 KT(KTaO3) Crystal	鉭酸鉀晶體高折射率、高穿透率、低熱膨脹係數特別適合製做成透鏡、視窗、或雷射應用

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